20120228A
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開始行:
[[解析ミーティング議事]]
解析Meeting
議事メモ 2012/2/28 17:00~
参加者:石田 上野 岡田 友野 三部 藤原
次回:3/5 17:00~
次々回(予定)3/13 17:00~
[1] Background subtraction (藤原)
(1)早い時間領域での規格化:
真空中に出てしまったMuのうち、規格化の領域を出てしまうものがある。
Muがまだ真空中に出る割合が少ない、時間の早い領域で規格化
(2)より厳しいdcY0 fiducial cutのテスト
dcY0の制限を+/- 20mmとすることでV2,V3領域での引き算が改善
→FC底板・FC上側構造物からのバックグラウンドを抑制した
より厳しくした場合:+/-10mm としたが、結果はあまり変わらない。
→+/- 20mmのカットで、FC上下からのバックグラウンドはよく切れたということ
[2]stopping distributionのスメアリング(三部さん)
Glass のDC imageを応答関数として扱う。(Glass targetではミュオンの崩壊点がδ関数で分布すると
仮定。)
30~180mg/cc標的におけるmuon Stop計算をGlassのラインシェープでスメアする
表面付近の分布を検討
今後
V1へのもれこみの検討を、dataとSimulationの両側面から行う
(a)SimulationでV1の漏れこみの計算
(b)データにおいてzのどの位置までであれば引き算は成功するのか。regionのわけかたの変更
データ regionの切り分けは あとのほうがよいのでは?→SImulation を先にやろう。
終了行:
[[解析ミーティング議事]]
解析Meeting
議事メモ 2012/2/28 17:00~
参加者:石田 上野 岡田 友野 三部 藤原
次回:3/5 17:00~
次々回(予定)3/13 17:00~
[1] Background subtraction (藤原)
(1)早い時間領域での規格化:
真空中に出てしまったMuのうち、規格化の領域を出てしまうものがある。
Muがまだ真空中に出る割合が少ない、時間の早い領域で規格化
(2)より厳しいdcY0 fiducial cutのテスト
dcY0の制限を+/- 20mmとすることでV2,V3領域での引き算が改善
→FC底板・FC上側構造物からのバックグラウンドを抑制した
より厳しくした場合:+/-10mm としたが、結果はあまり変わらない。
→+/- 20mmのカットで、FC上下からのバックグラウンドはよく切れたということ
[2]stopping distributionのスメアリング(三部さん)
Glass のDC imageを応答関数として扱う。(Glass targetではミュオンの崩壊点がδ関数で分布すると
仮定。)
30~180mg/cc標的におけるmuon Stop計算をGlassのラインシェープでスメアする
表面付近の分布を検討
今後
V1へのもれこみの検討を、dataとSimulationの両側面から行う
(a)SimulationでV1の漏れこみの計算
(b)データにおいてzのどの位置までであれば引き算は成功するのか。regionのわけかたの変更
データ regionの切り分けは あとのほうがよいのでは?→SImulation を先にやろう。
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